Die u:cris Detailansicht:

Feature-Scale Modeling of Low-Bias SF<sub>6</sub> Plasma Etching of Si

Autor(en)
Luiz Felipe Aguinsky, Georg Wachter, Francio Rodrigues, Alexander Scharinger, Alexander Toifl, Michael Trupke, Ulrich Schmid, Andreas Hoessinger, Josef Weinbub
Organisation(en)
Quantenoptik, Quantennanophysik und Quanteninformation
Externe Organisation(en)
Technische Universität Wien, Silvaco Europe Ltd
Seiten
1-4
Anzahl der Seiten
4
DOI
https://doi.org/10.1109/EuroSOI-ULIS53016.2021.9560685
Publikationsdatum
2021
Peer-reviewed
Ja
ÖFOS 2012
103011 Halbleiterphysik, 202028 Mikroelektronik
Schlagwörter
ASJC Scopus Sachgebiete
Electronic, Optical and Magnetic Materials, Electrical and Electronic Engineering, Hardware and Architecture
Link zum Portal
https://ucrisportal.univie.ac.at/de/publications/ef15c449-84bf-4f8f-a73b-cdf24fb1e92f