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Feature-Scale Modeling of Low-Bias SF<sub>6</sub> Plasma Etching of Si
- Autor(en)
- Luiz Felipe Aguinsky, Georg Wachter, Francio Rodrigues, Alexander Scharinger, Alexander Toifl, Michael Trupke, Ulrich Schmid, Andreas Hoessinger, Josef Weinbub
- Organisation(en)
- Quantenoptik, Quantennanophysik und Quanteninformation
- Externe Organisation(en)
- Technische Universität Wien, Silvaco Europe Ltd
- Seiten
- 1-4
- Anzahl der Seiten
- 4
- DOI
- https://doi.org/10.1109/EuroSOI-ULIS53016.2021.9560685
- Publikationsdatum
- 2021
- Peer-reviewed
- Ja
- ÖFOS 2012
- 103011 Halbleiterphysik, 202028 Mikroelektronik
- Schlagwörter
- ASJC Scopus Sachgebiete
- Electronic, Optical and Magnetic Materials, Electrical and Electronic Engineering, Hardware and Architecture
- Link zum Portal
- https://ucrisportal.univie.ac.at/de/publications/ef15c449-84bf-4f8f-a73b-cdf24fb1e92f