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Phenomenological modeling of low-bias sulfur hexafluoride plasma etching of silicon

Autor(en)
Luiz Felipe Aguinsky, Frâncio Rodrigues, Georg Wachter, Michael Trupke, Ulrich Schmid, Andreas Hössinger, Josef Weinbub
Organisation(en)
Quantenoptik, Quantennanophysik und Quanteninformation
Externe Organisation(en)
Christian Doppler Forschungsgesellschaft (CDG), Technische Universität Wien, Silvaco Europe Ltd
Journal
Solid-State Electronics
Band
191
Anzahl der Seiten
8
ISSN
0038-1101
DOI
https://doi.org/10.1016/j.sse.2022.108262
Publikationsdatum
05-2022
Peer-reviewed
Ja
ÖFOS 2012
103021 Optik, 202028 Mikroelektronik
Schlagwörter
ASJC Scopus Sachgebiete
Electronic, Optical and Magnetic Materials, Condensed Matter Physics, Materials Chemistry, Electrical and Electronic Engineering
Link zum Portal
https://ucrisportal.univie.ac.at/de/publications/9e437d7c-6fbe-42bb-9b01-5839ac67d3cf